实验室电子束复合热蒸发镀膜设备
VZZS-550/VZZS-650 高真空电子束复合热蒸发镀膜设备，兼有电子束蒸发镀膜和热阻蒸发镀膜功能，采用完全封闭的系统框架，结构紧凑，外观更漂亮，使用更安全。6-10KW e型电子枪可选国产或进口，可选配离子束清洗及辅助镀膜功能。该设备广泛应用于科研院所、高校在片状、半球状、异形基底表面制备金属/化合物（ITO等氧化物）/导电薄膜/光学薄膜等。
主要特点/优势：
★ 完全封闭的系统框架设计，外观更漂亮，使用更安全；是一台兼具美学和用户操控体验的全新升级产品；
★ 前开门真空腔体，方便取放基片、添加蒸发材料以及真空室的日常维护；
★ 1200L/s或1600 L/s分子泵作为主抽泵，真空极限高达5×10-5Pa(3.75×10-7Torr)；另可选进口磁悬浮分子泵或者低温泵作为主抽泵，真空极限高达3×10-6Pa(2×10-8Torr)；
★ 6～10KW e型电子枪，4-8穴坩埚可选；1～3组热蒸发源，1～3台蒸发电源可选；
★ 最大180mm基片/15～25mm ITO/FTO玻璃30片/拱形或半球形样品架，可定制一体化高精度刻蚀掩膜板；基片台公转，转速0～25rpm连续可调；平板基底衬底可选择加热或水冷；
★ 更优的薄膜均匀性和重复性，采用进口膜厚监控仪在线监测和控制蒸发速率、膜厚；
★ 可沉积金属（Au, Ag, Al, Ti, Pt, Mo, Fe, Cr, Ni等）、化合物（ITO等）及有机物材料（进口电子枪）；
主要技术指标：
型号 | VZZS-550 | VZZS-650 |
真空室 | Φ550×H550mm； | Φ650×H600mm； |
304不锈钢真空室，内表面镜面抛光； | 304不锈钢真空室，内表面镜面抛光； | |
真空系统 | 复合分子泵+合资机械泵；或进口磁悬浮分子泵/低温泵+进口干泵； | |
极限真空 | 优于8×10-5Pa（6×10-7Torr）（国产真空系统）；或优于3.0×10-6Pa（2.0×10-8Torr）（进口真空系统）； | |
恢复真空时间 | 达到5×10-4Pa≤20min； | |
e型电子枪 | 阳极电压6KV-10KV，带有XY偏转扫描；4穴、6穴、8穴、环形可选，12cc、22cc、40cc等； | |
热蒸发源 | 1～3组热蒸发源，1～3台蒸发电源可选； | |
基片台 | 180mm方形基片或15～25mm ITO/FTO玻璃30片/拱形、球形基片架，可定制一体化高精度刻蚀掩膜板；基片台可选择加热（室温～300℃可调可控）或水冷 | |
速率和膜厚监控 | 监测厚度范围：0.1Å～99µ9999Å，分辨率0.1Å；监测速率范围：0.1Å～9999.9Å.S/s，分辨率0.1Å | |
工艺气体配置 | 1～3路工艺气体MFC控制； | |
离子束清洗及辅助镀膜 | 离子能量：100～600eV、100～1200eV ；离子束流：100～150 mA；均匀区：Φ100～Φ180mm | |
电控系统 | 手动按钮继电器逻辑控制；或全自动控制，可编程控制器（PLC） | |
报警及保护 | 完善的程序互锁，完备的防误操作设计及保护；系统缺水、过流过压等异常情况进行报警并执行相应保护措施。 | |
选配 | 冷却循环水机/膜厚监控仪/基片台加热或水冷/蒸发电源 | |
设备配电 | 电压：AC380V/50HZ | |
功率：≤15KW | ||
设备尺寸 | 长×宽: 2500mm×1000mm | |
技术支持&服务：
1. 技术支持：在合同签订之前，我们的专业工程师会在充分了解客户需求的前提下，为客户做出最优的选型和方案设计，使客户充分了解并理解产品技术指标、性能用途、使用场合、安全注意事项等，以帮助客户做出正确的选择。
2. 安装与培训：在产品使用前，我们会派专业工程师为您提供现场技术支持、培训及演示服务。
3. 产品质保：我们对产品提供12个月的质保期，在质保期内发生设备或配件损坏由公司负责赔偿或免费维修。（耗材和易损件除外）
4. 终身维护：我们对提供的产品提供终身服务，对于超过质保期限的维修、维护仅收取材料费，免除一切人工费用。
